专利名称：具有掩模版清洁功能的曝光机专利类型：实用新型专利
发明人：秦颖,孙亮,孟春霞,郝昭慧,林承武申请号：CN201120081548.5申请日：20110324公开号：CN202003138U公开日：20111005
摘要：本实用新型涉及曝光机中清洁掩模版的技术领域，具体公开了一种具有掩模版清洁功能的曝光机。该具有掩模版清洁功能的曝光机包括：曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装清洁装置。本实用新型提供的具有清洁功能的曝光机，通过在曝光机内部不同位置安装清洁装置的方法，可以有效去除掩模版表面和/或背面附着的异物，提高掩模版的清洁度，同时不影响曝光机腔室内部的气流分布。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京路浩知识产权代理有限公司
代理人：王莹
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