专利名称：一种薄膜晶体管及制备方法、阵列基板、液晶显示
装置
专利类型：发明专利发明人：肖昂
申请号：CN201410340379.0申请日：20140716公开号：CN104157696A公开日：20141119
摘要：本发明提供了一种薄膜晶体管及制备方法、阵列基板、液晶显示装置，涉及显示技术领域，可以使薄膜晶体管的制备工艺更为简单，并且可以避免光致漏电流和空穴漏电流的产生；该薄膜晶体管包括：依次设置在衬底基板上的栅极、非晶硅层和欧姆接触层，所述栅极的尺寸小于所述非晶硅层的尺寸；在此基础上，所述薄膜晶体管还包括：设置在所述非晶硅层与所述衬底基板之间的挡光层，所述挡光层与未被所述栅极遮挡的非晶硅层的其余部分对应且超出所述非晶硅层。用于薄膜晶体管、包括该薄膜晶体管的阵列基板、包括该阵列基板的液晶显示装置的设计及制造。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人：申健
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