（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201310180314.X （22）申请日 2013.05.15 （71）申请人 清华大学
地址 100084 北京市海淀区100084-82信箱
（10）申请公布号 CN103231303A
（43）申请公布日 2013.08.07
（72）发明人 路新春;何永勇;沈攀;许振杰;王同庆;裴召辉;徐海滨;张莉瑶;郭振宇;雒建斌 （74）专利代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 宋合成
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
化学机械抛光设备
（57）摘要
本发明公开了一种化学机械抛光设备。所
述化学机械抛光设备包括：用于存放晶圆的晶盒装载装置；用于输送晶圆的晶圆转移装置；第一机械手；化学机械抛光机；用于放置晶圆的晶圆过渡装置；第二机械手；晶圆清洗装置，晶圆清洗装置包括具有第一容纳腔的第一本体、设在第一容纳腔内的第一晶圆支撑组件和设在第一本体上的晶圆清洗组件；晶圆刷洗装置，晶圆刷洗装置包括具有第二容纳腔的第二本体以及设在第二
容纳腔内的晶圆刷洗组件和第二晶圆支撑组件；晶圆干燥装置，晶圆干燥装置包括具有第三容纳腔的第三本体以及设在第三容纳腔内的晶圆干燥组件和第三晶圆支撑组件；和第三机械手。根据本发明实施例的化学机械抛光设备具有清洗效果好等优点。
法律状态
法律状态公告日2013-08-07 2013-09-04 2016-02-24
法律状态信息
公开
实质审查的生效 授权
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权利要求说明书
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说明书
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