专利名称：发光器件及其制备方法和掩膜版专利类型：发明专利发明人：刘新
申请号：CN201811319511.4申请日：20181107公开号：CN111162189A公开日：20200515
摘要：本发明涉及一种发光器件及其制备方法和掩膜版，发光器件包括基板、底电极层、像素限定层、发光单元层和顶电极层，所述底电极层设于所述基板上，所述像素限定层设于所述基板上，且所述像素限定层围绕所述底电极层形成像素坑，所述底电极层至少部分暴露于所述像素坑中，所述发光单元层设于所述像素坑内且覆盖于所述底电极层上，所述顶电极层设于所述发光单元层上，且所述顶电极层与每个所述像素坑对应的区域形成至少两个相互间隔的子电极区。如此可以在相同打印设备的打印精度下，增加子像素的数量，提高发光器件的分辨率，也可避免由于SiNx像素隔离柱的存在而造成边缘堆积，确保了发光器件良好的发光效果。
申请人：广东聚华印刷显示技术有限公司
地址：510000 广东省广州市广州中新广州知识城凤凰三路17号自编五栋388
国籍：CN
代理机构：广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人：林青中
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